Показать сокращенную информацию

dc.contributor.authorМаркевич, В. П.
dc.contributor.authorЛастовский, С. Б.
dc.contributor.authorЖданович, Д. Н.
dc.contributor.authorМедведева, И. Ф.
dc.date.accessioned2025-12-24T07:57:03Z
dc.date.available2025-12-24T07:57:03Z
dc.date.issued2025
dc.identifier.urihttps://rep.bsmu.by/handle/BSMU/55768
dc.descriptionДефекты с глубокими уровнями в кристаллах кремния, легированных галлием / В. П. Маркевич, С. Б. Ластовский, Д. Н. Жданович, И. Ф. Медведева // Актуальные проблемы физики твердого тела : сб. докл. XI Междунар. науч. конф., Минск, 19–23 мая 2025 г. / ГО «НПЦ НАН Беларуси по материаловедению» ; редкол.: В. М. Федосюк (пред.) [и др.]. – Минск, 2025. – С. 74–77.ru_RU
dc.description.abstractЕмкостная спектроскопия глубоких уровней использовалась для исследования электрически активных дефектов в кристаллах кремния, выращенных как путем вытягиванием из расплава по методу Чохральского (Cz-Si), так и посредством зонной плавки (FZ-Si), и легированных галлием (Ga) в процессах роста. Дефекты с глубокими уровнями, вызывающие остаточную фотопроводимость при комнатной температуре, были обнаружены как в кристаллах Cz-Si:Ga, так и в кристаллах FZ-Si:Ga. Проведены измерения температурных зависимостей скоростей эмиссии дырок, равновесного заполнения, и кинетики захвата дырок для обнаруженных ловушек. Определены электронные характеристики центров и построены их координатно-конфигурационные диаграммы. Обсуждаются атомные модели дефектов, ответственных за обнаруженные глубокие уровни в кристаллах Si:Ga.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.titleДефекты с глубокими уровнями в кристаллах кремния, легированных галлиемru_RU
dc.typeArticleru_RU


Файлы в этом документе

Thumbnail

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию